Prozessierung von Wafern und Sensoren

Das Fraunhofer Institut (IMS) und die ELMOS Semiconductor AG verbindet eine langjährige Kooperation zur gemeinsamen Forschung und Entwicklung, sowie der kooperativen Nutzung des CMOS Reinraums (200mm Wafer).

Auf über 1300 m² werden 200mm Wafer für unsere Auftraggeber prozessiert. Das Spektrum unserer Wafer-Line umfasst die komplette CMOS Prozess-Linie inklusive integrierter On-Chipsensorik. In dem angrenzenden Labor (ca. 600 m²) forschen weitere Mitarbeiter an dem Ausbau der CMOS Anwendungsgebiete.

Der Reinraum ist nach ISO / TS 16949:2009 (Automotive) zertifiziert.

TriDiCam hat mit dem Fraunhofer IMS einen starken Partner für die langfristige Zusammenarbeit im Bereich 3D CMOS Bildsensoren gefunden.

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